晶圓和光罩污染標(biāo)準(zhǔn)
晶圓和光掩模污染標(biāo)準(zhǔn)改進(jìn)您的表面缺陷檢測
優(yōu)質(zhì)表面缺陷污染標(biāo)準(zhǔn)：
提高您的半導(dǎo)體制造檢測系統(tǒng)的整體性能，
減少檢查/計(jì)量工具組中的不一致，以及
最大限度地提高設(shè)備產(chǎn)量
為半導(dǎo)體行業(yè)提供晶圓污染標(biāo)準(zhǔn)和掩模版污染標(biāo)準(zhǔn)，以實(shí)現(xiàn)一致且可重復(fù)的顆粒尺寸和計(jì)數(shù)控制。MSP 為晶圓和掩模版檢測工具提供認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)，用于開發(fā)、鑒定、校準(zhǔn)和監(jiān)控晶圓和掩模版/光掩模檢測系統(tǒng)。指定尺寸、成分和數(shù)量的顆粒沉積在您選擇的基材上，包括晶片、6 英寸光罩（任何類型）和其他不太常見的基材。顆?？梢猿练e在 100 毫米到 300 毫米的裸片、薄膜和圖案晶圓上。
發(fā)展\部署\遞送
我們的晶圓和掩模版污染標(biāo)準(zhǔn)用于開發(fā)半導(dǎo)體檢測工具、工藝工具和制造工藝。它們用于具有檢驗(yàn)系統(tǒng)和流程的工廠，用于資格和驗(yàn)收，以及在其使用壽命期間維護(hù)設(shè)備/流程和性能。MSP 的污染標(biāo)準(zhǔn)支持電子設(shè)備的大批量制造 (HVM) 和交付。
Dev-Dep 開發(fā)污染標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)： MSP DEV-DEP開發(fā)污染標(biāo)準(zhǔn)
MSP Dev-Dep開發(fā)污染標(biāo)準(zhǔn)有助于加速產(chǎn)品和工藝開發(fā)。在 MSP 顆粒沉積專家的支持下，這些標(biāo)準(zhǔn)是完全定制的，以滿足您應(yīng)用的獨(dú)特和具有挑戰(zhàn)性的要求。
Qual-Dep 資格污染標(biāo)準(zhǔn)部署： MSP QUAL-DEP資格污染標(biāo)準(zhǔn)
MSP Qual-Dep認(rèn)證污染標(biāo)準(zhǔn)伴隨著安裝在半導(dǎo)體工廠中的檢測系統(tǒng)。這些是特定于工具的標(biāo)準(zhǔn)，可以可靠地展示現(xiàn)場性能、降低驗(yàn)收風(fēng)險(xiǎn)并幫助匹配系統(tǒng)。OEM 晶圓和掩模版污染標(biāo)準(zhǔn)可以批量購買，具有專用部件號和更低的價(jià)格。
Cal-Dep 校準(zhǔn)污染標(biāo)準(zhǔn)品交付： MSP CAL-DEP校準(zhǔn)污染標(biāo)準(zhǔn)品
檢查系統(tǒng)需要在其整個(gè)使用壽命期間定期校準(zhǔn)，以確保性能一致，這對于作為設(shè)備制造中高級過程控制 (APC) 一部分的統(tǒng)計(jì)過程控制 (SPC) 至關(guān)重要。MSP Cal-Dep校準(zhǔn)污染標(biāo)準(zhǔn)是高度準(zhǔn)確的標(biāo)準(zhǔn)，可幫助您保持工具的性能，因此您的制造過程可以始終如一地提供高質(zhì)量的產(chǎn)品。這些晶圓/光掩模污染標(biāo)準(zhǔn)品采用明確定義的配方存放，可以快速生產(chǎn)以實(shí)現(xiàn)快速交付。
準(zhǔn)確可追溯,精確且可重復(fù)
我們的微分遷移率分析儀 (DMA) 精確控制沉積顆粒直徑的模式（峰值）和變化。DMA 使用可用的最佳粒徑參考材料（包括 NIST 的 PSL 球體）通過 SI 可追溯性進(jìn)行校準(zhǔn)。
MSP 的粒徑（10 nm 至 20 μm）和計(jì)數(shù)（每次沉積 400 至 >100,000 個(gè)顆粒）在基材之間具有極高的可重復(fù)性。光斑直徑（通常為 10-30 毫米）和光斑位置在每個(gè)沉積物上都是一致的（可在亞毫米精度下進(jìn)行調(diào)節(jié)）。
我們快速的基板處理速度意味著您的污染標(biāo)準(zhǔn)會(huì)迅速返回給您。周轉(zhuǎn)速度越快，您的產(chǎn)品開發(fā)、認(rèn)證和校準(zhǔn)的速度就越快。
MSP 的晶圓和光罩污染標(biāo)準(zhǔn)滿足當(dāng)今的檢測和計(jì)量應(yīng)用，包括：
可追溯校準(zhǔn)和匹配舊校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)
來料裸片檢驗(yàn)/鑒定
毯式薄膜監(jiān)控
來料光罩檢驗(yàn)/鑒定
生產(chǎn)光罩監(jiān)控
檢測工具的開發(fā)和認(rèn)證
工藝工具鑒定和監(jiān)控
